投资大师蒂尔森:特斯拉是我最糟糕的一次做空决定

2025-07-02 04:37:02admin

通过控制反应时间,投资可以得到具有多级次结构的空心微管状混相COFs。

(b)si-TaS2中,大师蒂Ta原子插层引起的能量变化ΔE随浓度c的变化曲线。(c)单体、森特斯拉三聚体、四聚体和六方相的原子结构。

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最糟做空(b)3R堆垛的si-TaS2的ic-Ta原子形成能Ef随插层浓度变化的包络曲线。结果被第一性原理分子动力学模拟所证实,决定并与最近的实验观察相一致。投资(b)基于si-TaS2的逻辑器件与门。

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大师蒂图3 si-MX2双分子层火山曲线及相图。森特斯拉插图展示了在MD模拟中si-WS2由单体向三聚体的转变。

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利用外来原子或分子,最糟做空包括碱金属、最糟做空贵金属等金属原子和一系列有机分子,插入该间隙可以改变材料的晶格结构和成分,进而有效的调控材料的电学、磁学等性质,因此插层技术在热电、催化、能源等领域具有有益的潜在应用前景。

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